易用性：HyperLith的图形用户界面（GUI）设计得非常简洁，特别适合mask-in-stepper lithography仿真。用户可以选择预定义的掩模技术、图案和抗蚀剂模型，或者自定义这些设置1。 灵活性：用户可以根据需要选择不同的仿真技术，如DUV、Immersion、EUV等，并且可以处理严格/标量、偏振、像差和抗蚀剂模型1。 分布式计算支持：HyperLith支持SimRunner，这是一种分布式计算和硬件加速工具，可以显著提高仿真效率1。 结果展示：LiveView GUI允许用户查看近似模拟结果，

工艺平台能力介绍 ➢ 先近的0.6~3um BiCMOS工艺加工线，净化厂房总面积2500M2。 ➢ 拥有步进式光刻机、硅片处理系统、磁控溅射台、PECVD薄膜设备、SiO2刻蚀机、铝刻蚀机、等离子注入机等主要工艺设备、仪器80余台（套）。 ➢ 工艺研发团队涵盖芯片设计、工艺开发、测试应用等领域的人/才。 我们的服务 致力于为广大科/研单位、无晶圆企业提供半导体芯片（RF、SiC MOS）定制服务及微纳加工、MEMS咨询及工艺加工服务！

国产激光直写光刻机来啦！需要的老板们看过来啊！ #国产光刻机##激光直写光刻机#

产品型号XT-01-UV litho-手动版 希望国产越来越强大 #光刻机##国产光刻机#

单位预算有限，需要采购国产曝光机，吧里有没有兄弟是做这个的？ #国产接触式光刻机#

支持厚胶。 对标德国设备，国产加油啊！ #无掩膜晶圆直写光刻机# #激光直写光刻机#

应广大客户要求，经过一段时间的优化和改良，做出了高性价比，适合高校、研究所科研用的无掩模激光直写光刻机呀，现推荐给大家

攒了个无掩膜激光直写光刻机，接近/接触式光刻机

龙玺精密-二手半导体设备买卖翻新~ KLA SURFSCAN SFS6220颗粒检测仪 DISCO DFG850研磨机 ACCRETECH UF3000EX探针台 DISCO DAD3240划片机 ACCRETECH UF200探针台 OXFORD PLASMAPRO 100ICP蚀刻系统 LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 DISCO DAG810研磨机 TEL MARK7涂胶显影机 DISCO DAD3350晶圆切割机 KLA Candela 8420表面缺陷检测系统 DISCO DFG8540研磨机 AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积 TEL ALPHA 8S扩散炉 DISCO DFG850研磨机 KLA Surfscan SP2晶圆检测系统 TEL MARK8涂胶显影机 DISCO DFD6350切割机 DISCO DFG 8560研磨机 DISCO DFG840研磨

不久前不是刚研制90n的吗？怎么一下干到28nm还出口?

①上海微电子第一代ArF光刻机（90nm工艺）已经通过验证并批量生产，2020年搬到燕东微电子大生产线，目前已经调试完毕进入生产。 ②上海微电子第二代ArF光刻机（65nm工艺）已经通过验证并批量生产，2022年搬到燕东微电子等大生产线，目前正在调试中。 ③燕东生产线虽然已使用包括前道光刻机在内的大量国产成套集成电路设备，但还是有部分设备为外购，还达不到整条生产线100%国产。（不过估计也快了） ④上海微电子第一代ArF浸润式光刻机（55nm—

想进入光刻行业，所以不知道大家有没有asml光刻机的一些相关资料，感谢🙏

众所周知，滑伪之前的麒麟芯片是台积电代工的，虽然滑伪的用意不明，但可以确定最终结果就是扶持台积电，等台积电强大后到美国建厂。而目前最新消息就是美国台积电已经流片了。锅内芯片将更不具有竞争力。所以滑伪的目的不光是帮助美国发展芯片产业，还作为老美的棋子打压中国芯片企业发展！！！

全套光刻机，部分清单

一种是利用吸光材料多重刻线路面板一定间距，通过平行对称，让光最终只留直线除掉偏光现象。 另一种就是利用介质吸光把偏光现象的弱光吸收掉。

荷兰光刻机进口报关清关流程，荷兰光刻机进口清关需要哪些资料荷兰光刻机巨头ASML代表在接受采访时表示，按照计划，荷兰政府将在9月1日起对中国实施限制出口政策。不过ASML公司已经向荷兰政府提出特别申请，允许他们继续对外出口相关产品。尽管中国目前还不能生产最高端的芯片，但中国目前是全世界最大的芯片市场，也是最大的芯片生产国。荷兰光刻机进口报关清关流程是怎么样的？1.进口企业与鹏通签署委托协议，给齐光刻机清关相关资料

供应光刻机射频电源、微波电源以及电源内部元件

如图所示，中国最好的光刻机，第一次曝光能达到什么精度啊？

EUV DUV 光刻 光刻模拟 光刻仿真

哈工大全媒体（梁英爽 田贝达/文 主办方/图）近日，2024黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛决赛举行。由校工会组织，哈工大资产经营有限公司申报、机器人技术与系统全国重点实验室樊继壮教授团队研发的“核工业自动化检测维修机器人”和哈工大先进技术研究院申报、航天学院赵永蓬教授研发的“放电等离子体极紫外光刻光源”两个项目获得大赛一等奖。 “核工业自动化检测维修机器人”已成功应用于国内大型核电集团公司、哈

刻蚀工艺在半导体制造、微电子加工等众多领域起着至关重要的作用，然而，时常会出现刻蚀失败的情况，其背后存在着多方面原因。 从工艺参数角度来看，刻蚀时间若把控不当，过长可能导致过度刻蚀，使原本需要保留的材料被过多去除，影响结构完整性；而过短则无法达到预期的刻蚀深度，无法实现设计的图形转移。刻蚀温度同样关键，不合适的温度会改变刻蚀剂的化学反应速率，要么使反应过慢无法有效刻蚀，要么反应过于剧烈而失控，破坏

目前上海微电子能够提供的最好的产品就是这个了 SSA600型号，产品精度只能达到90nm，感觉距离国际同行还相当遥远。。。。。

国昌盛世深圳控股关注光刻机与芯片制造！据悉，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球先进的芯片制造设备——高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻机。这标志着台积电对这项先进半导体技术的立场从最初的谨慎转向全面采用，旨在保持其在竞争激烈的半导体行业中的领导地位，并满足对先进AI芯片制造工艺的快速增长的需求。

国产光刻机还不如1980di，更不如日本的光刻机。结果才到20年前的水平，看来我没说错，华为就是台某电代工的。不过日本最近真厉害啊，经济复苏加上科技频频突破。日本不愧是亚洲之光

龙芯上市（股市）公司，第五大股东（利河伯资本）是不是美国犹太资本。 如果（利河伯资本）是美国犹太资本注资，龙芯是在饮鸠止渴、龙芯着急去死。 龙芯不止是块大肥肉，美国犹太资本注资龙芯最终想鸠占鹊巢，美国犹太资本想弄死龙芯，美国犹太资本想弄死中国自主计算机产业。 査（利河伯）三个字

创意大爆发，光刻工艺的无限可能！ 光刻工艺是微电子器件制造中至关重要的一环，它是将精确而复杂的设计图案转化为实际器件结构的关键步骤。光刻工艺主要借助光刻机来完成，它利用光敏材料对紫外线进行曝光和显影的过程，在芯片表面上形成所需的光刻图案。 整个光刻工艺可以分为几个关键步骤：掩膜准备、曝光、显影、清洗和检测。 首先，掩膜准备是光刻工艺的第一步。设计师根据芯片设计要求制作掩膜，掩膜是一个透明基板，上面有所

跨越时空的科技创新，高精度光刻成就文化教育未来 华钛技术是172纳米真空紫外光刻-表面处理系统 π²-Cygni的国内独家代理商，在半导体测试与工艺方面，为客户提供成熟的测试测量仪器和解决方案。 高精度光刻--实现如此简单 使用简洁的设计和简约的方法，α -line重新定义了的手动对准系统的性能期望和价格范围。利用CygnusPhotonic技术较好的π-Photon 172nm光源，α-line简化了传统的高分辨率光刻，并引入了现有对准系统不易实现的新处理能力。α-line是

24.9.7的新禁令，买1980和1970需要审批，但arfi还有最落后的一款，1965，这个有没有限制，28nm唯一的希望，不卖的话大陆生产能力就倒退到65/55nm的Arf了

“让那些内外反动派在我们面前发抖罢，让他们去说我们这也不行那也不行罢，中国人民的不屈不挠的努力必将稳步地达到自己的目的。”

想看一些早些年199几年的关于光刻的学术会议的资料，但是找起来非常困难。

在当今科技高速发展的时代，光刻机和 PFA 制品以其独特的性能和广泛的应用，成为了科技创新领域中备受瞩目的两颗明星。 一、光刻机：半导体产业的核心装备 光刻机，又称为掩模对准曝光机，是制造芯片的核心设备。它的工作原理如同用极其精细的画笔在微小的硅片上绘制复杂的电路图案。通过将光线透过带有电路图案的掩模，照射到涂有光刻胶的硅片上，使光刻胶发生化学反应，从而在硅片上刻蚀出所需的电路图案。 光刻机的精度决定了芯片

阿斯麦尔的光刻机

便宜卖了#中国上半年购买ASML光刻机180亿#

尼康光刻机#光刻机##半导体##半导体设备##光电##二手设备#

上海微电子确实的最新光刻机确实能生产14nm了吗，撇开良率较低这一点。

请问谁知道正威集团那台光刻机从哪买的？现在在哪？

国内有哪些公司做光刻机翻新和维修呢 有没有业内大神来分享一下

贴吧大神们啊！有知道这本书哪有卖或哪能找的到吗？我想学习一下东西用!求求了！

光刻机德国产SUSS系列 SUSS MA6、SUSS MA8、SUSS MA200、SUSS MA300L、SUSS 100E、SUSS 150E。 光刻机奥地利EVG系列 EVG620、EVG6200 均已调试完毕，成色9成到95新，均为原厂配件含技术售后。欢迎考察。

光刻机,溅射台,显影机,刻蚀机等国内现货,有需要的老板请联系~www.semi1688.com/semi.asp

我们最需要的光刻机会被全面切断，我知道很多人会幻想我们自研光刻机。实际上这完全是国内宣传系统*啊*的结果，现实的情况是上海微电子早在2007 年就官宣 90nm 光刻机自研成功了，现在是 2024 年，17年过去了，为什么还是 90nm？原因很简单，当初所谓的自研就是逆向仿制。 俄罗斯媒体毫不留情的指出了东大光刻机自研的秘密。前段时间华为芯片出来的时候，内网又是一片狂欢说什么光刻机自研成功了，当初我就说如果是光刻机成功，华为不会故意

最近爆款的乐高光刻机EUV款和DUV款ASML公司只对内部员工出售现在国内StonestudioLEGO中国首家拿货渠道 适合光刻机大佬研究模型#乐高##光刻机#