常规的清洗方法是使用去离子水冲洗芯片，在此方法中，去离子水以高流速冲击芯片，将芯片上的杂质和污染物冲走，从而达到清洁效果。但这一清洗方法对芯片冲击太大，易造成元件损坏，且离子水利用率低，浪费资源。另外一种清洗方式是用盐酸或氢氟酸浸泡清洗，但这种方法清洗效果不好，表面残留的溶液会对芯片造成腐蚀。
　　为弥补传统工艺的不足，莱特莱德提供了一种更稳定的超纯水系统，其工艺具有简单、成本低廉、性能优良、耐久性好、适用性强等优点。能有效清除芯片表面残留的杂质，防止芯片受到腐蚀，延长芯片寿命。其设备内部采用优质膜元件，不仅能除去水中的导电介质，而且能使水中不离解的胶体物质，气态与有机物质去除率低，所得到的超纯水纯度高，无病毒、细菌、病毒、不含悬浮物质，不含化学物质污染，符合相关卫生标准。
　　当前，我国信息产业持续、高速发展，实现了历史性跨越。除了IC工业之外，莱特莱德超纯水设备在石油、化工、炼油、火力发电、电力等领域也有重要应用，本公司所提供的超纯水设备可以长期稳定地生产出符合水质要求的用水，为客户提供既可负担又可使用，更加环保，可以用得更好!

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