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intel 18a不靠谱

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刚拿到了intel 18a pdk的部分资料。
从gate length和gate pitch来看,和之前的intel4差不多。
当然intel有所谓的RibbonFET结构,也许晶体管密度能增加很多。
但指望赶上tsmc 2nm估计比较困难。


IP属地:江苏来自Android客户端1楼2024-04-01 09:43回复
    RibbonFET相当于Gate All Around,是一种晶体管结构,相当于从平面结构变成FinFET那种变化,参考intel的22nm和台积电的20nm就行。GAA的结构是用来限制漏电的。


    IP属地:广东2楼2024-04-01 10:34
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      其实早就爆料过啦


      IP属地:浙江来自Android客户端3楼2024-04-01 14:12
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        我真不懂啊,我懂的IC设计,最终都只生成在这些位置上布线图案,底下的晶体管层的几何尺寸,你给也可以,不给也无妨


        IP属地:广东4楼2024-04-01 15:41
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          @St_Leee @卧楼听松 这里有18A相关解读


          IP属地:上海来自Android客户端6楼2024-04-01 16:06
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            iBM的实验室2nm产品 CPP是44,N3是45,已经推到极限了,40nm的width,中间隔断大于40,也就120nm的cell height,其实和N3的尺寸变化不大


            IP属地:广西来自iPhone客户端8楼2024-04-01 17:25
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              IP属地:辽宁来自Android客户端9楼2024-04-01 17:33
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                hp与hd比密度?


                IP属地:上海来自Android客户端10楼2024-04-01 17:45
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                  胡扯八道


                  IP属地:北京来自Android客户端11楼2024-04-01 19:29
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                    GAA做成这样,那些什么M2P也是一样的


                    IP属地:广东12楼2024-04-01 22:43
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                      盲猜最终性能提高5-10%


                      IP属地:福建来自Android客户端13楼2024-04-02 00:25
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                        都到了GAA了还在算gate length,文盲吧,FinFet这么多年白用了。


                        IP属地:瑞士来自Android客户端14楼2024-04-02 15:51
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                          IP属地:广东15楼2024-04-03 00:02
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                            “背面供电不是你理解的这样子。 只是用在standard cell上的”——建议你还是先找intel官方powervia的讲解视频看看:左边是传统芯片剥面图,右边就是“背面供面”芯片的剥面图——传统芯片是“power and signal”都混在晶体管层(transistors)的同一侧,就是左图的上部;“背面供面”芯片把“power”移到了下面,晶体管层(transistors)夹在两个层中间,就是我圈出来那块。


                            IP属地:广东16楼2024-04-03 20:34
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                              台积电3nm,估计真实是16nm


                              IP属地:广东17楼2024-04-03 21:38
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